該常規型CVD設備是由1700℃管式爐、三路質量流量計和真空泵系統組成，用戶可以選配不同型號的爐子和氣路系統搭配不同的化學氣相沉積系統。

該型號PECVD為成儀最新款，綜合了國內大多數廠家的管式PECVD系統的優點，觸摸屏集中一鍵控制，實驗證明此結構沉積速度快，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了成儀自主研發的實驗電爐AIO全自動智能控制系統，使得操作更加簡便，功能更加強大。

型號： PE-12100C 用途： 使傳統的化學氣象沉積（CVD）反應溫度降低，在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應.