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快速退火爐

型號: RTP1100 用途: 快速退火與鍍膜 規格: Φ100*200 特點: 快速升溫快速降溫
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技術參數

  快速熱處理退火爐簡稱 RTP(Rapid Thermal Processing Furnace),不但擁有很快的升溫速率100℃/S,而且降溫速率也有了質的飛躍,降溫速率100℃/S。我們的工程師們巧妙地利用了冷壁工藝,以至于達到如此快的降溫速度。真正的快速升溫和快速降溫!

  腔體采用了獨有雙層石英管結構,外層管進氣,內層管出氣,使得反應氣氛與加工樣品充分而均勻地接觸。

  加熱燈管之所以能夠讓硅片快速升溫,是因為光源波長在0.3-4微米之間,石英管壁無法有效吸收這一波段的輻射,而晶片則正好相反。因此,晶片可以吸收輻射能量快速加熱,而此時石英管壁仍維持低溫,即所謂冷壁工藝。

  應用領域:

  Ø 快速熱退火 (RTA); 離子注入后退火

  Ø 石墨烯等氣象沉積,碳納米管等外延生長

  Ø 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);

  Ø 硅化 (Silicidation);

  Ø 擴散 (Diffusion);

  Ø 離子注入后退火 (Implant Annealing);

  Ø 電極合金化 (Contact Alloying);

  Ø 晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);

  主要特點:

  Ø 快速升溫100℃/S,快速降溫100℃/S;

  Ø 雙層爐管結構,氣氛與樣品接觸更均勻;

  Ø 直接測量樣品表面溫度,測溫更精準;

  Ø 爐膛根據設置可自動左右移動,可以滿足更多的實驗應用;

  Ø 真空度可達9.8×10-4Pa;

主要技術指標 數據
產品型號 RTP1100
極限溫度 1200℃
額定溫度 1100℃
控溫精度 ±1℃
溫場均勻性 ±2℃
最快升溫速率 100℃/S
最快降溫速率 100℃/S
操控系統 智能模糊控制
操作界面 7英寸觸摸屏
加熱方式 短波紅外線加熱
加熱腔體結構 雙層管
氣體流動方式 外管進氣,內管出氣
擴充端口   可擴充真空測控和FFC供氣
過載保護   電流過大自動切斷主回路
超溫保護   溫度出現過高時切斷主回路
傳感器類型    S型單鉑銠
反應腔室尺寸    Φ100*200mm
式樣有效空間 3.5英寸
傳感器類型 9.8×10-4Pa
抽氣端口尺寸 KF16(或Φ8mm寶塔嘴)
供氣口尺寸 Φ6.35mm雙卡套(或Φ8mm寶塔嘴)
樣品冷卻方式 風冷
法蘭冷卻方式 水冷
最大功率 15KW
額定電壓    AC 380V,50Hz
外形凈尺寸 950*500*560
重量 約55KG

 

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